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企业简介
Company Introduction
中锃半导体是一家聚焦于前道晶圆设备的高科技公司
核心产品是前道工艺“等离子体干法刻蚀设备(Plasma Dry Etch)。 团队在技术和经验上非常全面,涵盖设备、制程工艺甚至器件设计等多个环节,并且会与产业生态内的合作伙伴进行联合研发,期望尽早推出卓越的刻蚀设备产品和成熟的工艺解决方案,协助客户解决关键工艺,提升产品价值。
我们的产品主要应用于特色工艺的半导体晶圆制造,例如第三代半导体(SiC、GaN)、Mems微机电系统、特色材料(AlN&LNO&玻璃基)、先进封装场景以及 Dicing切割和表面处理等过程工艺,希望能够为这些快速发展技术领域提供 工艺设备的支持。中锃的核心特色是,在先进的刻蚀机台之外,中锃半导体也向客户提供 “关键工艺解决方案”,以期望提供更丰富的客户价值。
特色工艺
SiC
化合物半导体
异质集成
晶圆加工



设备机台 & 特色工艺解决方案
EQUIPMENT
&TECHNOLOGY
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碳化硅&沟槽刻蚀
SiC
&Trench Etch
碳化硅(SiC)作为第三代半导体材料,以其优异的电子迁移率、高温稳定性和耐高压特性,在多个高技术领域展现出强大的市场潜力。广泛应用于电动汽车、太阳能逆变器、5G通信和智能电网等高端领域。以其卓越的高温、高压和高频率性能,SiC正逐步取代传统硅材料,推动电子设备向更高效、更小型化发展。随着制造成本下降和产能扩张,预计其市场应用将进一步扩大。
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